Přehled produktů
Leuven Instruments nabízí 8palcové (IBS-8) a 12palcové (IBS-12) IBS systémy, oba založené na fyzikálním rozprašování: kladné ionty ze zdroje iontů jsou urychlovány, neutralizovány a bombardovány povrch vzorku, aby se vytvořily vzory.
Společný design:Generování plazmy je odděleno od oblasti waferu, aby se zabránilo rušení z-těkavých vedlejších produktů; oba podporují jednokomorové konfigurace/konfigurace shluků.
Rozdíly:12-palcový systém je uzpůsoben pro 12-palcovou hromadnou výrobu waferů se zdrojem iontů o velkém průměru; 8palcový systém je kompatibilní s 8/6/4palcovými wafery, ideální pro středně malou výrobu a výzkum a vývoj.
Výhody
Společné výhody
1. Široká materiálová kompatibilita: Zpracovává kovy, slitiny, oxidy, polovodiče, izolanty atd.
2.Flexibilní ovládání: Nezávislé nastavení energie/hustoty iontového paprsku; -90 stupňů až +80 stupňů sklon stolku pro nakloněné vzory / čištění bočních stěn; otočný stolek pro rovnoměrnost.
Diferencované výhody
1,12" (IBS-12):<1% etch uniformity (1σ), suitable for high-precision 12-inch advanced processes (e.g., emerging memory).
2,8" (IBS-8):<3%/2% uniformity (standard/large ion source); compact size, cost-effective, fit for mature nodes and R&D.
Výhody
Mimořádně-vysoká jednotnost a přesnost
Jeho velký-průměr iontového zdroje zasáhne<1% etching uniformity (1σ)-super consistent. You can tweak ion beam settings independently, dialing in parameters just right to cut down material damage.
Široká materiálová kompatibilita
Žádné chemické{0}}závěsy jako RIE-nezvládnou všechny pevné látky, od vrstev Ta a MTJ až po izolátory. Ideální pro složité stohy materiálu v pokročilých zařízeních.
Flexibilní přizpůsobivost
Plotovka se naklání od -90 stupňů do +80 stupňů, což je skvělé pro šikmé konstrukce. Přidejte rotaci na ose pro zvýšení symetrie a bude vyhovovat všem druhům vzorování.
Spolehlivost hromadné výroby
Je připraven zasunout do 12-palcových panelů a pracovat se všemi druhy přenosových modulů. Fyzické naprašování znamená, že žádné chemické zbytky-omezují problémy s údržbou a udržují provoz dlouhodobě stabilní.
Aplikace
Běžné aplikace
Polovodičové vzorování (logická/paměťová zařízení); výroba šikmých/blazených mřížek; čištění bočních stěn po-leptání.
Diferencované aplikace
1,12palcový: Klíčový proces pro 12palcovou nově vznikající paměť (např. MRAM MTJ), integrovaný s LMEC-300™ pro hromadnou výrobu.
2,8-palcový: 8-palcové zralé uzly (např. 0,11μm poly gate leptání); MEMS/optoelektronický výzkum a vývoj.
Parametry
|
Kategorie |
8palcový IBS systém |
12palcový systém IBS |
|
Model |
Lorem série A |
Řada Pangea A |
|
Kompatibilita oplatek |
8-palcový (primární); 6"/4" (volitelně, přes kompatibilní elektrody) |
12palcový (exkluzivně) |
|
Rovnoměrnost leptání (1σ) |
<3% (standard ion source); <2% (optional large-diameter ion source) |
<1% (large-diameter ion source as standard) |
|
Řízení iontového paprsku |
Nezávislé nastavení energie a toku iontového paprsku |
Nezávislé nastavení energie a toku iontového paprsku |
|
Rozsah náklonu fáze |
-90 stupňů až +80 stupňů (umožňuje nakloněný dopad iontového paprsku) |
-90 stupňů až +80 stupňů (umožňuje nakloněný dopad iontového paprsku) |
|
Funkce jeviště |
Otočné během procesu (zlepšuje osovou symetrii procesu) |
Otočné během procesu (zlepšuje osovou symetrii procesu) |
|
Konfigurace komory |
Konfigurace s jednou-komorou nebo clusterem (volitelné) |
Integrovatelné do různých clusterových systémů (kompatibilní s-velkými výrobními linkami) |
|
Materiálová kompatibilita |
Kovy, slitiny, oxidy, sloučeniny, polovodiče, izolanty a další pevné materiály |
Kovy, slitiny, oxidy, sloučeniny, polovodiče, izolanty a další pevné materiály |
|
Scénáře základních aplikací |
8palcové vyspělé procesní uzly (Větší nebo rovné 0,11 μm), polygetické leptání, pomocné zpracování STI, R&D (MEMS/optoelektronika) |
12-palcové pokročilé procesy, nově vznikající paměť (MRAM MTJ, vrstva PCRAM phase-change layer), hromadná výroba |
FAQ
Otázka: Jak si vybrat mezi 8palcovým a 12palcovým systémem IBS?
Odpověď: Vyberte na základě velikosti plátku a výrobního rozsahu. Vyberte si 12-palcový pro hromadnou výrobu 12palcových plátků s vysokou přesností; 8palcový je ideální pro 8/6/4palcové wafery, malou a střední produkci nebo výzkum a vývoj.
Otázka: Dokážou systémy zpracovávat ne-polovodičové materiály?
A: Ano. Oba podporují téměř všechny pevné materiály, včetně kovů, oxidů, izolantů a kompozitů, kromě polovodičových substrátů.
Otázka: Lze 8palcový systém upgradovat tak, aby zpracovával větší wafery?
Odpověď: Ne. 8palcový systém je konstrukčně navržen pro 8palcové a menší wafery; 12palcové wafery vyžadují specializovanou řadu Pangea A.
Otázka: Co zajišťuje stabilitu procesu obou systémů?
Odpověď: Oddělený design plazmové produkce a oblasti waferů zabraňuje interferenci vedlejších produktů a navíc otočné stoly a standardní-komponenty zaručují stabilitu.
Populární Tagy: systém tvarování iontového paprsku, výrobci, dodavatelé systémů tvarování iontového paprsku v Číně
