Po pokrytí povrchu substrátu, jako je křemíkový plátek vysoce fotocitlivým fotorezistem, a poté ozáření povrchu substrátu specifickým světlem (obvykle ultrafialovým světlem, hlubokým ultrafialovým světlem, extrémním ultrafialovým světlem) přes masku obsahující informace o cílovém vzoru, bude fotorezist ozářený světlem reagovat. Oblast ozářená po vyvolání proto bude mít jiné účinky než oblast neozářená (v závislosti na vlastnostech fotorezistu).
