Přehled produktů
Jedná se o základní procesní nástroj šitý na míru speciálně pro výrobu mokré oxidační pece (zařízení s vertikálním -dutinovým povrchem-vyzařujícím laserem (VCSEL). Je zkonstruován tak, aby zvládal procesní potřeby optoelektronických i polovodičových zařízení-pomocí přizpůsobené technologie mokré kyslíkové oxidace, vytváří husté optické zadržovací vrstvy a elektrické izolační struktury ve VCSEL. Navíc funguje i pro obecnou pasivaci povrchu plátků, čímž poskytuje klíčovou podporu procesu pro zvýšení výkonu zařízení.
Velkým plusem pece Wet Oxidation Furnace je vysoce-přesné řízení: rovnoměrnost teploty je na špičkové-úrovni, regulace vodní páry je snadná a konzistence oxidace je pevná. To znamená, že splňuje přísné požadavky na stabilitu procesu zařízení VCSEL-na místě. Je také navržen se spolehlivým systémem, běží stabilně a přesně zapadá do scénářů přesných procesů pro výrobu optoelektronických zařízení. Ať už se jedná o malý-sériový výzkum a vývoj ve výzkumných institucích nebo-rozsáhlou výrobu v podnicích, splňuje tyto různorodé potřeby-poskytuje spolehlivou podporu zařízení pro technologické průlomy a zavádění kapacit v oblastech souvisejících s VCSEL-, jako je optická komunikace, snímání, lidar a další.
Aplikaces
- Výroba zařízení VCSEL: Jako hlavní nástroj pro výrobu laserů VCSEL vytváří husté optické zadržovací vrstvy a elektrické izolační struktury prostřednictvím přizpůsobených procesů mokré oxidace kyslíku. Podporuje vytváření vysoce-výkonných VCSEL používaných v optické komunikaci, 3D snímání spotřební elektroniky, automobilovém lidaru a dalších oblastech.
- Pasivace povrchu waferů: Pracuje s univerzálními procesy pasivace povrchu waferů pro optoelektronická a polovodičová zařízení. Optimalizuje stav povrchu waferů, zvyšuje spolehlivost a životnost fotodetektorů a polovodičových senzorů.
- Výzkum a vývoj pokročilých optoelektronických materiálů: Nabízí stabilní a přesnou experimentální platformu pro výzkumné instituce. Podporuje zkoumání parametrů procesu mokré oxidace pro nové optoelektronické materiály (jako jsou pokročilé materiály na bázi arsenidu galia-) a pomáhá pokročit ve výzkumu a vývoji špičkových-optoelektronických technologií.
Výhody
Vysoce{0}}přesné řízení procesu: Poskytuje vynikající rovnoměrnost teploty, snadné nastavení vodní páry a spolehlivou konzistenci oxidace. To zajišťuje strukturální jednotnost zařízení VCSEL a zabraňuje změnám výkonu způsobeným fluktuacemi procesu.
Vysoká spolehlivost systému: Vyznačuje se stabilní strukturou a vyspělým řídicím systémem pro dlouhodobý-stabilní provoz. Splňuje požadavky na přesnost procesu optoelektronických zařízení a zkracuje prostoje způsobené poruchami zařízení.
Silná procesní kompatibilita: Zaměřuje se na mokrou oxidaci VCSEL a zároveň podporuje univerzální pasivační úpravy. Přizpůsobuje se výrobě a výzkumu a vývoji různých produktů a zlepšuje využití zařízení.
Záruka vysoké výtěžnosti: Zvyšuje elektrickou izolaci zařízení VCSEL a efekty omezení světelného pole prostřednictvím stabilní regulace teploty, přesné regulace vodní páry a optimalizovaných procesů,-které účinně snižují míru závad.
Parametry
|
Velikost oplatky |
4-6 palců |
|
Teplotní rozsah |
300 stupňů -500 stupňů |
|
Použitelný proces |
Mokrá oxidace VCSEL |
|
Přesnost regulace teploty |
Menší nebo rovno ±0,5 stupně |
|
Plochá zóna |
250 mm |
|
Rovnoměrnost oxidace |
R Menší nebo rovno 1μm |
FAQ
Používá se toto zařízení pouze pro výrobu mokré oxidační pece?
Ne, neomezuje se na to. Kromě základního procesu mokré oxidace zařízení VCSEL je také kompatibilní s obecnými pasivačními úpravami povrchu waferů pro optoelektronická a polovodičová zařízení a přizpůsobuje se výrobě a výzkumu a vývoji různých produktů.
Jak přesné je nastavení regulace teploty a vlhkosti z hlediska řízení procesu?
Vynikající rovnoměrnost teploty, pohodlná regulace vlhkosti a dobrá oxidační konzistence. Přesně zajišťuje jednotnost optické zadržovací vrstvy a elektrické izolační struktury zařízení VCSEL, čímž se zabrání dopadům na výkon v důsledku kolísání procesu.
Jak stabilní je provoz zařízení a dokáže uspokojit sériovou výrobu nebo dlouhodobé{0}}výzkumné a vývojové potřeby?
Díky stabilní struktuře a vyspělému řídicímu systému může fungovat stabilně po dlouhou dobu, čímž se zkracují prostoje způsobené poruchami. Splňuje požadavky podniků na nepřetržitou hromadnou výrobu a dlouhodobé-experimentální potřeby výzkumných institucí.
Může podporovat zkoumání procesů pro nové optoelektronické materiály?
Ano, poskytuje stabilní a přesnou experimentální platformu pro výzkumné instituce a podporuje zkoumání parametrů procesu mokré oxidace pro nové optoelektronické materiály, jako jsou vylepšené materiály na bázi arsenidu galia-, což přispívá k výzkumu a vývoji špičkových-technologií.
Existují nějaké specifické požadavky na velikost oplatky?
Přizpůsobuje se především běžným specifikacím waferů VCSEL a souvisejících zařízení. Konkrétně může poskytnout přizpůsobená řešení přizpůsobení podle požadavků na velikost plátku skutečné výroby nebo výzkumu a vývoje uživatelů.
Populární Tagy: mokrá oxidační pec, Čína výrobci, dodavatelé mokré oxidační pece
